在化學(xué)場所見得最多的水處理設(shè)備是什么?答案當(dāng)然是去離子超純水設(shè)備，去離子純水機(jī)應(yīng)用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，并且將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低的狀態(tài)，那么常見去離子純水機(jī)堵塞的原因分析及注意事項(xiàng)有哪些?
 

　　一、顆粒/膠體污堵
 

　　進(jìn)水顆粒度>5um時(shí)會造成進(jìn)水流道堵塞，引起模塊內(nèi)部水分分部不均勻，從而導(dǎo)致模塊整體性能降低。如果EDI模塊的進(jìn)水不是直接由RO產(chǎn)水端進(jìn)入EDI模塊，而是通過RO產(chǎn)水箱經(jīng)過過壓泵供水，建議在進(jìn)入EDI模塊前段增設(shè)保安過濾器(<0.2um)。在組裝EDI設(shè)備時(shí)，所有的連接管道系統(tǒng)應(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜質(zhì)進(jìn)入模塊。
 

　　二、無機(jī)物污堵
 

　　如果EDI進(jìn)水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)計(jì)值或者回收率超過設(shè)計(jì)值時(shí)，將導(dǎo)致濃水室和陰極室的結(jié)構(gòu)，生成鹽類物質(zhì)析出沉淀，通常結(jié)垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。
 

　　即使這類物質(zhì)的濃度很小，接觸時(shí)間很短，但隨著運(yùn)行時(shí)間的累加，仍有發(fā)生結(jié)垢的可能，這種硬度結(jié)垢后很容易通過酸洗去除。
 

　　使用低PH溶液在EDI系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)沖洗，可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垢。當(dāng)進(jìn)水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的以外進(jìn)入到EDI模塊時(shí)，也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無機(jī)物污堵。也可以采用酸洗方式進(jìn)行沖洗。
 

　　三、有機(jī)物污堵
 

　　當(dāng)進(jìn)水有機(jī)物污染TOC或TEA含量超過設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發(fā)生有機(jī)污堵?？梢圆捎酶逷H值的藥水對淡水室及濃水室循環(huán)清洗可以將有機(jī)物分子清除離子交換樹脂對這種污堵進(jìn)行清洗。
 

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